设备说明

♦ 设备名称：超高真空薄膜溅射机

♦ 制造厂：日本ULVAC株式会社

♦ 型号规格： MPS-3000-HC5

♦ 主要技术指标：

极限真空度：准备室6.7*10^-5 Pa；

成膜室6.7*10^-7 Pa；

溅射速率2～4nm/min；

膜厚分布：±3%；

靶材质数量：5个；

基板直径3″，靶材2″；

具有直流和射频溅射功能。

♦ 应用范围：

纳米厚度巨磁阻磁性多层膜材料及磁性隧道结材料；纳米厚度非磁性金色属薄膜材料；纳米厚度氧化物、氮化物薄膜。

♦ 设备图片：