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资源设备

 

设备说明

 设备名称:直流磁控溅射系统

 制造厂:德国LH公司

♦ 型号规格:Z600

♦ 主要技术指标:

极限真空度:5*10-7 mbar

直流溅射功率:15KW

最大沉积面积:488*488mm

厚度均匀度:5%

三个溅射靶,靶材488*488mm,可独立和复合溅射;

真空系统采用冷泵,无污染,成膜质量高。

♦ 应用范围:溅射面积大,适合大面积、批量型薄膜制备;各种金属薄膜材料制备。

♦ 设备图片:

 
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