设备说明
♦ 设备名称:直流磁控溅射系统
♦ 制造厂:德国LH公司
♦ 型号规格:Z600
♦ 主要技术指标:
极限真空度:5*10-7 mbar;
直流溅射功率:15KW;
最大沉积面积:488*488mm;
厚度均匀度:5%;
三个溅射靶,靶材488*488mm,可独立和复合溅射;
真空系统采用冷泵,无污染,成膜质量高。
♦ 应用范围:溅射面积大,适合大面积、批量型薄膜制备;各种金属薄膜材料制备。
♦ 设备图片: