设备说明

♦ 设备名称：溅射系统三

♦ 制造厂：德国L-H公司

♦ 型号规格：Z-550

♦ 主要技术指标：

本底真空2*10^-6 mbar；

射频最大功率2.5kw；

直流功率最大1kw；

沉积速率约在数百埃/分钟；

可直流、交流、溅射；

靶材有Cu, Cr, Fe-Ni, Ti，可溅射3英寸片子13片。

♦ 应用范围：多种金属单层膜、多层膜及复合膜

♦ 设备图片：