设备说明

♦ 设备名称：溅射系统二

♦ 制造厂：日本ANEIVA公司

♦ 型号规格：SPF-312

♦ 主要技术指标：

本底真空 8*10^-7 Torr射频磁控溅射系统；

可溅射绝缘靶、金属靶等；

可按比例通入O₂, N₂气体进行反应溅射，制备氧化物、氮化物膜。

♦ 应用范围：现有靶材包括：金、铜、镍、铁镍、铅、钛等金属靶；SiO₂绝缘靶

♦ 设备图片：