设备说明

♦ 设备名称：光学薄膜测厚仪

♦ 制造厂：德国

♦ 型号规格：Nanocalc-2000-XR

♦ 主要技术指标：

       通过光反射干涉产生的干涉条纹，经过软件计算得到薄膜材料的厚度；

       与其他测厚仪相比，非接触无损测量、多层薄膜测量，是其特点；

       波长范围：250-1050纳米；

       测量厚度范围：10纳米-100微米；

       光斑尺寸：200um；

       扫描台：6英寸马达及软件控制扫描；

       测量软件：多层薄膜测量拟合；

       与显微镜联用的光纤适配器(NC-MFA-C-Mount)；

       参考样品：伍台阶经标定的Si/SiO2标样；

♦ 设备图片：